本发明涉及喷涂装置技术领域,尤其涉及一种陶瓷生产用均匀喷涂装置。
背景技术:
喷涂通过喷嘴或碟式雾化器,借助于压力或离心力,分散成均匀而微细的雾滴,施涂于被涂物表面的涂装方法。可分为空气喷涂、无空气喷涂、静电喷涂以及上述基本喷涂形式的各种派生的方式,如大流量低压力雾化喷涂、热喷涂、自动喷涂、多组喷涂等。而陶瓷喷涂是指在陶瓷的表面喷涂一层陶瓷薄膜,以改善原材料的性能,传统的我陶瓷喷涂方法是直接用喷嘴将涂层喷涂到工件上,利用这种方法对陶瓷进行陶瓷涂层时,其精度、涂层厚度等误差大。而现有的没有通过旋转进行喷涂,然后在通过毛刷对旋转喷涂再次进行粉刷的功能,为此,针对现有的不足之处,本发明提供一种陶瓷生产用均匀喷涂装置。
技术实现要素:
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,包括操作台,所述操作台的下端四角均设有支撑腿,所述操作台的上端中部设有圆柱,所述圆柱的两侧均设有滑轨,所述滑轨相对的一端均安装有限位块,所述滑轨上设有滑块,所述滑块的上端设有旋转装置,所述旋转装置上放置有固定吸盘,所述圆柱的侧壁上固定安装有两个固定盘,两个所述固定盘上分别连接有伸缩机构,所述伸缩机构远离固定盘的一端连接有固定刷头,所述固定刷头上设有刷毛,所述圆柱的上端设有支撑柱,所述支撑柱的上端设有储液箱,储液箱的两侧均安装有横板,所述支撑柱的两侧壁上均连接有支撑杆,所述支撑杆远离固定板的一端固定连接在横板上,所述横板的末端设有凹槽,所述凹槽内通过转轴连接有竖杆,所述竖杆的一侧设有空心管,所述空心管远离竖杆的一侧安装有喷嘴,所述储液箱的两端设有输送管,所述输送管远离储液箱的一端贯穿空心管并连接在喷嘴上。
优选地,所述喷嘴的表面上均匀分布有喷孔,所述喷孔均设有过滤网。
优选地,所述输送管为伸缩软管。
优选地,所述伸缩机构为伸缩杆。
优选地,所述旋转装置为伺服电机。
本发明中,通过滑块和滑轨移动靠近限位块,然后通过固定吸盘将陶瓷固定在上面进行旋转,在操作台的两端安装有刷毛,通过圆柱上端的储液箱,分别在储液箱的两侧壁上通过输送管连接到喷嘴,且刷毛和喷嘴均相对应在固定吸盘的上方两侧。本发明结构简单,通过陶瓷旋转进行喷涂,刷毛将旋转的陶瓷进行均匀粉刷,操作简单,实用方便。
附图说明
图1为本发明提出的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置的结构示意图;
图2为本发明提出的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置的喷嘴的表面结构。
图中:1支撑腿、2旋转装置、3操作台、4滑轨、5竖杆、6转轴、7凹槽、8横板、9支撑杆、10输送管、11储液箱、12固定盘、13伸缩机构、14毛刷、15空心管、16喷嘴、17固定吸盘、18滑块。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-2,一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,包括操作台3,操作台3的下端四角均设有支撑腿1,对整个机体起到支撑作用,操作台3的上端中部设有圆柱,圆柱的两侧均设有滑轨4,滑轨4相对的一端均安装有限位块,限制滑块18的范围,防止滑块18超出限位块所在的位置,滑轨4上设有滑块18,滑块18的上端设有旋转装置2,旋转装置2上放置有固定吸盘17,圆柱的侧壁上固定安装有两个固定盘12,两个固定盘12上分别连接有伸缩机构13,伸缩机构13远离固定盘的一端连接有固定刷头,固定刷头上设有刷毛14,刷毛14的数量为若干个,且刷毛14为软毛,更具有抗腐蚀性,耐磨,圆柱的上端设有支撑柱,支撑柱的上端设有储液箱11,储液箱11的两侧均安装有横板8,支撑柱的两侧壁上均连接有支撑杆9,支撑杆9对横板8起到稳固支撑作用,支撑杆9远离固定板的一端固定连接在横板8上,横板8的末端设有凹槽7,凹槽7内通过转轴6连接有竖杆5,竖杆5的一侧设有空心管15,空心管15远离竖杆5的一侧安装有喷嘴16,储液箱11的两端设有输送管10,输送管10远离储液箱11的一端贯穿空心管15并连接在喷嘴16上。
本发明中,喷嘴16的表面上均匀分布有喷孔,喷孔处均设有过滤网,可过滤喷涂效果的有害大颗粒,从而减少喷孔堵塞并大幅提升表面梳理质量,输送管10为伸缩软管,伸缩机构13为伸缩杆,旋转装置2为伺服电机,通过伺服电机上丝杆和螺母带动固定吸盘17旋转。
本发明中,通过滑块18和滑轨4移动靠近限位块,然后通过固定吸盘17将陶瓷固定在上面进行旋转,在操作台3的两端安装有刷毛14,通过圆柱上端的储液箱11,分别在储液箱11的两侧壁上通过输送管10连接有喷嘴16,且刷毛14和喷嘴16均相对应在固定吸盘17的上方两侧。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。